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【文章名称】:激光化学气相沉积(连载之一)
【发表期刊】:《金属热处理》 2007年06期
【作者】:张魁武 (北京机床研究所)
【摘要】:本讲座介绍了激光化学气相沉积的基本原理,较详细地讲述了制备金属薄膜、金刚石薄膜、类金刚石薄膜、氢化非晶硅薄膜、化合物半导体薄膜及绝缘体薄膜等所用的激光器、工艺参数以及薄膜的性能。
【关键词】: 激光化学气相沉积 激光诱导 激光辅助 光解激光 热解激光 光热共解激光
【正文快照】:0引言传统的化学气相沉积(CVD)通过在零件基体表面发生化学反应形成薄膜。所有的沉积反应都是吸热反应,需要有热源将基体加热到400~1500℃,一般都在900~1000℃之间的高温区,且难以实现选区定域沉积。等离子体化学气相沉积(PCVD)虽能激发反应物质的分子,在较低温度下发生非平
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