激光化学气相沉积

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【文章名称】：激光化学气相沉积(连载之一)
【发表期刊】：《金属热处理》 2007年06期
【作者】：张魁武 (北京机床研究所)
【摘要】：本讲座介绍了激光化学气相沉积的基本原理,较详细地讲述了制备金属薄膜、金刚石薄膜、类金刚石薄膜、氢化非晶硅薄膜、化合物半导体薄膜及绝缘体薄膜等所用的激光器、工艺参数以及薄膜的性能。
【关键词】： 激光化学气相沉积 激光诱导 激光辅助 光解激光 热解激光 光热共解激光
【正文快照】：0引言传统的化学气相沉积(CVD)通过在零件基体表面发生化学反应形成薄膜。所有的沉积反应都是吸热反应,需要有热源将基体加热到400~1500℃,一般都在900~1000℃之间的高温区,且难以实现选区定域沉积。等离子体化学气相沉积(PCVD)虽能激发反应物质的分子,在较低温度下发生非平

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【文章名称】：激光化学气相沉积(连载之二)
【发表期刊】：《金属热处理》 2007年07期
【正文快照】：(接本刊2007年第6期126页)4金刚石和石墨薄膜激光化学气相沉积沉积碳膜(包括金刚石、类金刚石和石墨等)可得到已知最硬的金刚石材料和很软的润滑材料石墨。而类金刚石具有比TiN高的硬度,又有较好的摩擦特性,在工业中有广泛的应用,其中某些材料能与生物配合使用,特别是碳-生物

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【文章名称】：激光化学气相沉积(连载之三)
【发表期刊】：《金属热处理》 2007年08期
【正文快照】：7绝缘体薄膜激光化学气相沉积7·1氮化物薄膜沉积7·1·1TiN薄膜沉积TiN薄膜有许多优良的性能,其硬度、耐磨性、耐蚀性及稳定性高,质量扩散性能低,适合应用于热屏障和集成电路。其外观呈金黄色,适合用于装饰涂层等。过去制备TiN薄膜的方法,基体都需加热到1000℃以上,一般基材