氮化层硬度和深度检测求助

清霜

蒋天 发表于 2012-10-26 08:35
为什么要镶嵌啊，我们都是采用的另外的夹持方式的，用铜片保护，用专用的夹具夹持磨金相，白亮层在磨抛过程 ...

你说的对，之前的人也提过，以前就是用铜片夹住磨的。但是现在没有，前一个人说他去学习的时候别人就叫这样做，很好的。这个谢谢你的提醒，以后争取也这样。但是我说的1um打硬度，还有就是表面好像是喷丸了的，不是说这样夹持就能解决的，不知你有什么高见？

蒋天

为什么要镶嵌啊，我们都是采用的另外的夹持方式的，用铜片保护，用专用的夹具夹持磨金相，白亮层在磨抛过程都不会损伤。

蒋天

既然要打表面硬度，为什么不在制样时就弄成平面的啊?1um的白亮层的话，你的淡化层深度也不会很深，选择100g载荷的试验力打显微硬度都打不了两三个点就到基体了。圆形试样打梯度的就更难准确确定渗层深度了，除非你有什么办法能保证打出的压痕是半径方向的

清霜

蒋天 发表于 2012-10-25 16:52
既然要打表面硬度，为什么不在制样时就弄成平面的啊?1um的白亮层的话，你的淡化层深度也不会很深，选择100g ...

是打的表面啊！但是你镶嵌后打表面，也要磨抛啊。我怕1um在磨抛后影响打硬度。

清霜

zhengcj 发表于 2012-10-25 11:21
如果你的氮化处理质量要求理解没有问题，你根据GB/T 4340.1-2009第5－6页的图1和图2，自己确定一下试验力 ...

看我的帖子，他说1um以上。我就以白亮层来算的，不知道对否，看资料不是还有其他相吗？是不是我的判断依据也不对了？

孤鸿踏雪

清霜 发表于 2012-10-25 10:52
杨工你也看到要求了，1um的厚度。这个要求是氮化层的厚度啊，镶嵌后磨抛我都在担心1um都被磨掉了。

    这个是因为设计者外行的错误表达。对于1μm的白亮层后，只要原来产品表面的粗糙度不是很糟糕，可以正常打磨、抛光，基本上不影响你用小负荷试验力的检测结果。

zhengcj

清霜 发表于 2012-10-25 11:01
我看了白亮层就差不多1um，有的还不到1um。

如果你的氮化处理质量要求理解没有问题，你根据GB/T 4340.1-2009第5－6页的图1和图2，自己确定一下试验力吧。第一次听说1um这么浅氮化层深要求的。

清霜

zhengcj 发表于 2012-10-25 10:55
1um只是下限，又没有规定上线，实际做深些不就可以吗？

我看了白亮层就差不多1um，有的还不到1um。

清霜

孤鸿踏雪 发表于 2012-10-25 10:07
“他给的要求是氮化层>1um”
    这是白亮层厚度要求。他没有规定表面硬度用多大的试验力（载荷）检测 ...

杨工你也看到要求了，1um的厚度。这个要求是氮化层的厚度啊，镶嵌后磨抛我都在担心1um都被磨掉了。

zhengcj

1um只是下限，又没有规定上线，实际做深些不就可以吗？

清霜

NUS24204 发表于 2012-10-25 09:52
用V型垫块支撑圆形试样检测表面硬度。

肯定不行的，氮化层1um。而且表面不够光滑，镶嵌处理表面又怕磨掉氮化层，不磨打得硬度看不清，测量不准。硬度高选大力值又怕打穿，选小力值，表面本来就没处理好更看不清，而其硬度高力值小，表面粗糙度大，结果几乎无效。

孤鸿踏雪

    “他给的要求是氮化层>1um”
    这是白亮层厚度要求。他没有规定表面硬度用多大的试验力（载荷）检测，你可以选择较小的试验力检测。既然你对氮化产品的检测缺乏了解，也可以选择不同的试验力检测几组硬度值加以对比，看看你能发现什么？

    氮化产品的质量检测请参照GB/T11354—2005

清霜

    最近有一条气门弹簧要求进行氮化层硬度和深度检测，但是他给的要求是氮化层>1um，表面氮化层硬度>800HV.因为对氮化不太了解，而他也没说HV用多大的力。现在出现制样腐蚀后氮化层在800倍下就一点点，我都是检测的白亮层。问题就是我检测白亮层准不准确？还有就是1um打表面硬度，就算不磨，我计算了一下，可能也没法打。这个材料是oteva-70的好像相当于60Si2Mn，我打了心部的硬度有550HV1。在这里想求助各位，我应该怎么检才准确？

NUS24204

用V型垫块支撑圆形试样检测表面硬度。

hony17

可以考虑用超声波硬度计来检测氮化硬度，是便携式的，不用做试样，也不用担心氮化层厚度问题。请参考一下：www.honya17.com/plus/view.php?aid=24