关于GB/T6394-2002的一些疑问,请同行共同探讨!!
1、该标准中对于比较法的说明是“有代表性的视场”,大家如何理解这个有代表性的含义?如果整个抛面上有若干个4级以上晶粒,“有代表性的视场”应不应该包括这些大晶粒呢?标准中在评定说明中又提到低于10%的大晶粒不予考虑,这个10%是说某个视场呢还是整个抛面?如果是单个视场,有代表性的视场要是应该包括大晶粒,那么一般直径80mm的圆内有一个4级晶粒是不是已经达到10%了,这样就要按标准要求的,给予报出混晶比例了呢?2、对于截点法需要随机的5个视场,且通过合理的倍数获得每个视场的截点数为100左右,依据标准中给出的图2所示的有效测量区域,7级晶粒度在100倍下大约要获得170多个截点数,这说明如果晶粒在7级,理想状态应采用较高倍数测量。现在有个疑问就是,和第一个疑问相关,同样的如果抛面上存在大晶粒,这个如何操作,截点法获得的是一个平均晶粒度,但是评定说明中同样存在如果大晶粒比例超过10%,如何来确定混晶比例。截点法作为仲裁方法,这时候如何才能让各方都心服口服呢?不能说我咋一看整个抛面(我的意思是随机地观察),确实发现有不少大晶粒,如果纯粹采用截点法,不给出混晶比例,是不是也没有真实反映该抛面的晶粒状况呢?可是如果要是给出其可操作性又如何呢?是不是这种情况只能说本标准已不适用,只能采用gb/t 24177-2009了呢?
写的较乱,不知大家明白我的意思没有?? binyuanhong 发表于 2013-1-30 16:48 static/image/common/back.gif
我们也一般用比较法,一般有局部粗大晶粒的话单独指出来就可以了,比如晶粒度7级,局部粗大区域为4级这样就 ...
出局部大晶粒,不写比例? 我们也一般用比较法,一般有局部粗大晶粒的话单独指出来就可以了,比如晶粒度7级,局部粗大区域为4级这样就OK了。采用截距法或者面积法的话选的视场也是有代表性的,如果一般都在7级左右,局部有很大的晶粒,肯定是不把这些晶粒放进去计算了,不过报告还是要给出局部粗大的现象。
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