奥氏体晶粒分析 请大家看看
本帖最后由 yanyuqingteng 于 2013-5-2 16:16 编辑材料是42CrMoA 采用氧化法 860°C加热,保温一小时,冷水淬,然后做金相。请大家看看哪种是奥氏体晶粒度
晶粒大一点的地方打的硬度HV0.1 160左右,晶粒小的地方硬度为HV0.1180左右,请各位高工帮忙分析一下,不胜感激! 如果检测面位于脱碳层内,会得到假像。
那些晶粒大的,会不会是全脱碳引起的? 取样位置不当,可能造成误判! 2楼的意见值得考虑,160~180HV不是42CrMo钢的正常淬火硬度,显现晶粒大和小的地方都是脱碳形成的铁素体区,图看到的只是铁素体晶粒。淬硬的马氏体区域才是显示奥氏体晶粒的地方必须用合适的腐蚀剂去显现,42CrMo钢不适合氧化法。 ZX771 发表于 2013-5-2 19:03 static/image/common/back.gif
2楼的意见值得考虑,160~180HV不是42CrMo钢的正常淬火硬度,显现晶粒大和小的地方都是脱碳形成的铁素体区 ...
淬硬的马氏体区域才是显示奥氏体晶粒的地方必须用合适的腐蚀剂去显现, 请教一下,如果是要在马氏体区域,是不是要磨掉外层的氧化皮才能得到?如果是都磨掉了那怎么能看奥氏体晶粒度呢?、
不好意思,我入行较浅,望您不吝赐教 :handshake这个材料的话,直接用正常工艺淬火,然后看淬火样的晶粒度就可以了吧!
没必要用氧化法制样! yanyuqingteng 发表于 2013-5-3 10:50 static/image/common/back.gif
淬硬的马氏体区域才是显示奥氏体晶粒的地方必须用合适的腐蚀剂去显现, 请教一下,如果是要在马氏体区域, ...
淬硬的马氏体区域才是显示奥氏体晶粒的地方必须用合适的腐蚀剂去显现。你现在的试样可以试着把脱碳层去除。在刚好显露马氏体的表面上抛光不腐蚀状态观察,氧化法是在利用晶界易于被氧化的原理来实现晶粒度显示的,不需要另外腐蚀但是氧化后制样抛光面与原抛光面倾斜10~15°,找到氧化皮被磨掉但还有氧化层在晶界残留了根子的地方观察原奥氏体晶粒。前面办法不成功那就只有在马氏体上直接腐蚀了,这时外层的氧化皮必须全部都磨掉,用苦味酸+缓释剂加热显示奥氏体晶粒度。
论坛上不少讨论奥氏体晶粒度的显示和测定 的帖子可以参考,比如这里:
http://www.rclbbs.com/forum.php?mod=viewthread&tid=97727 ZX771 发表于 2013-5-3 18:26 static/image/common/back.gif
淬硬的马氏体区域才是显示奥氏体晶粒的地方必须用合适的腐蚀剂去显现。你现在的试样可以试着把脱碳 ...
非常感激您的指教,受教了,真心感谢, 你做的是氧化法,但制样要当心,请15°角磨抛,用15%盐酸酒精侵蚀,图片显示的是铁素体晶粒度,你氧化皮磨了多了一点,应该在二交接处观察,即可。 看到的应该是铁素体吧
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