活性屏离子渗氮的问题
我想了解一下活性屏离子渗氮的情况，请各位高手指点一下。在渗氮时，气压对渗氮效果的影响怎么样。如果采用纯氮进行离子渗氮。对供气方式有要求不。 什么是活性屏离子渗氮？能解释一下不？ 活性屏离子渗氮技术是将高压直流电源的负极接在真空室内一个铁制的网状圆筒上，被处理的工件置于网罩的中间，工
件呈电悬浮状态或与100V 左右的直流负偏压相接。当直流高压电源被接通后，低压反应室内的气体被电离。在直流电场的作用下，这些被激活的离子轰击圆筒的表面，离子撞击的动能在圆筒的表面转变成热能，因而圆筒被加热。同时，在离子轰击下不断有铁或铁的渗氮物微粒被溅射下来。所以在活性屏离子渗氮过程中，这个圆筒同时起到两个作用：一是通过辐射加热，将工件加热到渗氮处理所需的温度；二是向工件表面提供铁或铁的氮化物的微粒。当这些微粒吸附到工件表面后，高含氮量的微粒便向工件内部扩散，达到渗氮的目的 可以提供点这方面的资料吗？谢谢分享 lz要对什么材料进行活性屏渗氮？ 活性屏离子渗氮技术确实好，渗层均匀，国内也有两个大学在搞研究。但效率要比普通离子渗氮低很多，活性屏离子渗氮存在遮挡问题，因为这种技术不是完全通过离子轰击工件而产生渗层，主要是靠中性原子或者是中性原子与相当微弱离子轰击而产生渗层。凡是离子渗氮能做到材料，活性屏离子渗氮也可以做，这项技术本身也属于离子渗氮一种。对于不锈钢，前期最好进行一项处理。我们公司现在也只能对小零件进行加工，但成本很高。
页:
[1]