关于JB/T7710-2007
请教大家JB/T7710标准里要求试样应为淬火态怎么做到(我们有个产品做760度碳氮共渗,制样要镶嵌的温度160度,那也相当于回火了),还有做金相试样时什么情况下会出现干扰层,干扰层在显微镜下是以什么组织形态出现,磨样磨久了有影响吗。 金相制样是有要求的,第一个问题,制样过程不能对组织有影响,不太清楚在160度下镶嵌需要的时间是多久,是否组织变为回火马氏体了呢?楼主是否可以考虑冷镶嵌试样呢?
第二个问题,根据司特尔的制样指南,磨样磨久了容易产生制样缺陷,有麻点。曵尾等 本帖最后由 3050702040 于 2011-5-4 21:56 编辑
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晶粒大小不一样,不知道是不是制样不当造成的 可能是局部过热造成晶粒长大,回火可没有这么强
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