您的帖子已经发出了好些时间，不知解决没有？从技术要求看，有如下质疑：
1，‘要求不能渗碳（软氮化）但要增加硬度’，这一要求如同‘要叫马儿跑，又要马儿不吃草’。纯铁渗氮表面生成的白亮层硬度，就是你现在获得的硬度值。要达到500HV以上，必须对白亮层添加（溶解）碳元素（或其他元素），不然，无伦用多长的时间渗氮，还是停滞在你现在获得的硬度值。
2，所谓‘不能渗碳’，无非是因为DT材料本身要求很低的含碳量，才能保证它的良好的软磁性能（高的导磁率和低的矫顽力），如果这一规定是由此推理而来，那就有了质疑。软氮化是添加碳只能溶于白亮层，并不能（或者非常有限）渗入铁素体的基体中。
3，如果说白亮层溶了碳以及下面的铁素体薄层中免不了有微量的碳进入其中，由于深度很有限，究竟会对整体零件的磁性能有多大程度的影响？用磁性检查法检测一下，就看出来了，估计不会比渗氮白亮层及长时间渗氮氮的深扩散造成的危害更大。
（注：氮形成的白亮层和氮渗入基体对磁性的影响是正面的，还是负面的，我没有查到相关资料，但要指出的是长时间渗氮，其扩散深度会达 1mm 以上——对纯铁而言。）
4，说到这里，您的零件提出的技术要求可能存在着不合理性。要比较好的解决它，建议用渗氮与氮碳共渗获得的硬度数据与磁测量的数据相结合来辨明是非。
5，由于您没有介绍零件是否为磁性元件，不知技术要求的全部，是连猜带蒙的提出上述看法，无的放矢，错了请鉴谅！ 各位老总 纯铁硬度问题是否有新的方案.请联系18615653882，跪求
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