同一台设备【碳控炉】生产的从动锥齿轮表面HV1硬度值前后炉相差很大为什么？
同一台设备【碳控炉】同工艺.同产品.同材料20CrMnTiH生产的从动锥齿轮表面硬度值HV1前后炉检验结果相差很大是什么原因？其它都合格。比如表面硬度值炉号为S1643：HV1：672.80，S1644：HV1：768.40，S1645：HV1：685.60，Sl646：HV1：758.30，望各位高工前辈指导。谢谢 请问楼主，能否介绍一下你的工艺？你的锥齿轮表面硬度检测位置在哪里？如何检测的？ 孤鸿踏雪 发表于 2011-12-19 15:31 static/image/common/back.gif请问楼主，能否介绍一下你的工艺？你的锥齿轮表面硬度检测位置在哪里？如何检测的？
回复杨工：温度930度渗碳，830度淬火，碳势强渗1.2，扩散一段0.9，扩散二段0.85，降温均温段0.85，检验齿轮（试块）绝圆部位。按国标GB／T9450-2005检验，请专家指导…… 金华热处理 发表于 2011-12-19 16:59 static/image/common/back.gif
回复杨工：温度930度渗碳，830度淬火，碳势强渗1.2，扩散一段0.9，扩散二段0.85，降温均温段0.85，检验齿 ...
惭愧，不了解细节问题，不掌握第一手信息资料，很难做出判断。 金华热处理 发表于 2011-12-19 16:59 static/image/common/back.gif
回复杨工：温度930度渗碳，830度淬火，碳势强渗1.2，扩散一段0.9，扩散二段0.85，降温均温段0.85，检验齿 ...
如果是检测试块的表面硬度，那么试块的材质是否为同一批次或预备处理的方式是否一样？放置的方式或部位是否有变化？试块的大小是否有区别？ 周建国 发表于 2011-12-19 18:35 static/image/common/back.gif
如果是检测试块的表面硬度，那么试块的材质是否为同一批次或预备处理的方式是否一样？放置的方式或部位是 ...
试块材质是同批次的，预备热处理也正常，放置方法部位及试块大小也一样。 呵呵 这个问题确实很难说清楚 ，我们井式渗碳炉 在同一炉产品中放的两块试样（放在同一位置）的检测结果也有差距呢 cnszgong 发表于 2011-12-19 20:19 static/image/common/back.gif
呵呵 这个问题确实很难说清楚 ，我们井式渗碳炉 在同一炉产品中放的两块试样（放在同一位置）的检测结果也有 ...
像你怎样的试验我也做了无数次，热处理的问题真是很难说清楚…… 如果检查前期毛坯材料 组织没问题的话 可以检查设备本身 的问题，炉内气氛是否又不均匀现象，装炉方式等等，同炉内零件位置不一样 淬火时冷速必定存在差距。 初来乍到 个人观点！ 金华热处理 发表于 2011-12-19 20:40 static/image/common/back.gif
像你怎样的试验我也做了无数次，热处理的问题真是很难说清楚……
HV672-768换算来为HRC59-63，不同炉次间有此偏差在国内目前也是很常见的，如果同一试块出来这么大偏差的话，你设备及其他辅助材料的稳定性就太差了 daniel-li 发表于 2011-12-20 14:02 static/image/common/back.gif
HV672-768换算来为HRC59-63，不同炉次间有此偏差在国内目前也是很常见的，如果同一试块出来这么大偏差的话 ...
请问有效硬化层（DC）HV660处须达到总深的50％以上吗？ 金华热处理 发表于 2011-12-20 14:34 static/image/common/back.gif
请问有效硬化层（DC）HV660处须达到总深的50％以上吗？
DC多以大于HV550或513渗层深度算，你总深的定义是什么？金相法测定的总深么？当代多以硬度法测定以减小争议 daniel-li 发表于 2011-12-20 14:41 static/image/common/back.gif
DC多以大于HV550或513渗层深度算，你总深的定义是什么？金相法测定的总深么？当代多以硬度法测定以减小争 ...
我们也是硬度法，从次表面至HV550处的总深，我问的是从次表面至HV550处的总深50％处硬度值是不是必须达到HV660啊！:sleepy: 这个看你怎么选择强渗扩散比，3:1左右还是可以的。当然这得结合你有效硬化层总深度是多少来选择强扩比例 daniel-li 发表于 2011-12-20 16:12 static/image/common/back.gif
这个看你怎么选择强渗扩散比，3:1左右还是可以的。当然这得结合你有效硬化层总深度是多少来选择强扩比例
我问的是标准是不是有规定，你们是怎么控制的啊！:handshake 金华热处理 发表于 2011-12-20 16:24 static/image/common/back.gif
我问的是标准是不是有规定，你们是怎么控制的啊！
不好意思，上贴没有看明白您的意思。QCT262里并没有HV660的具体规定。但是这条规定相当于要求过共析大于50%一样，这是合理的要求。不管标准里有没有，做到HV660大于50%是合理的。这要看你执行哪个标准了，我刚刚翻看了下我们报告，大多可以满足，我们的强扩比约为2:1。供参考 daniel-li 发表于 2011-12-20 16:29 static/image/common/back.gif
不好意思，上贴没有看明白您的意思。QCT262里并没有HV660的具体规定。但是这条规定相当于要求过共析大于5 ...
谢了，我们的工艺是2.5比1，有些时候HV660处也达不到50％，我认为是检验有问题，因为上下炉偏差太大了。:handshake
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