求问,H探头对于真空脉冲氮化的控制意义
公司打算订购一台氮化炉,供应商给提供了个方案,感觉这个方案怪异的很...简单的理解就是一个气体氮化炉,加载一个抽真空系统,控制用氢探头+MFC+组态控制。我原先理解这个只是一个预抽真空的气体氮化,但是供应商来了一说,说这个能实现真空脉冲氮化,而且价格比普通的要翻倍,达到近50W....
真空脉冲氮化这块我之前没接触过,查了一下,觉得按照这个操作,抽真空的时候势必要损害氢探头,到时候要关闭氢探头进行保护,那他这个组态控制还能不能起作用?这样断续的使用,对于工艺,对于质量来说,如果按照原先设想,还用进口的氢探头,还有没有实际的意义? 可能是多用途的设备,既可实现常规的气体渗氮或者软氮化,用氢探头+MFC控制。
也可实现真空脉冲氮化的功能。真空脉冲氮化一般不用氢探头控制,建议看看何老的文章:"脉冲法渗氮(含氮碳共渗)的应用和工艺参数的设定" http://www.rclbbs.com/forum.php?mod=viewthread&tid=57836 Jasen 发表于 2012-1-4 20:35 static/image/common/back.gif
可能是多用途的设备,既可实现常规的气体渗氮或者软氮化,用氢探头+MFC控制。
也可实现真空脉冲氮化的功能 ...
承蒙指导,非常感谢:P 我公司前段时间买了一台低真空脉冲氮化炉,挺好用的,只要10W而已。 yzj206 发表于 2012-1-7 16:27 static/image/common/back.gif
我公司前段时间买了一台低真空脉冲氮化炉,挺好用的,只要10W而已。
你的泵受得了吗?从炉里抽出来的高热的氨气腐蚀性很强才对啊
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