hnhxslr 发表于 2012-5-3 13:47:06

氮化渗层深处的硬度如何控制

我们有一内齿圈，要求0.3处大于等于480HV，0.6处大于等于320HV，心部硬度要求21-28.5HRC（我们做的是24-26HRC），氮化时间80小时，氨分解率25%，510度，其它产品与它要求一样，工艺一样很容易就做到了，但是这种产品0.3处却只有400-450HV，各位高手给予指点，谢谢！材料是42CrMo

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-4 10:01:37

   张工这个材料不是做了很多年吗？

hnhxslr 发表于 2012-5-5 13:33:56

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-4 10:01 static/image/common/back.gif
张工这个材料不是做了很多年吗？

杨工是的，同样的材料。工艺一样，但就是这个新产品 满足不了这样要求，有高招吗，不知该如何解释这个问题？

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-5 14:34:19

hnhxslr 发表于 2012-5-5 13:33 static/image/common/back.gif
杨工是的，同样的材料。工艺一样，但就是这个新产品 满足不了这样要求，有高招吗，不知该如何解释这个问题 ...

又有新品了？不是原来那个839106啦？

hnhxslr 发表于 2012-5-5 14:53:47

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-5 14:34 static/image/common/back.gif
又有新品了？不是原来那个839106啦？

新产品，和106差不多，就是没有上面的发兰盘，他亲爱奇怪了

tlx322 发表于 2012-5-5 16:58:09

0.6mm处好办，0.3mm的地方要480HV还真是难做，尽量提高机体硬度，采用2段法，第一段温度用500℃，时间取久一点，第二段用515~530均可，整体渗层往0.85~0.9mm做，还好估计氮化物要求不是很高，不然才难做呢。

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-9 12:01:14

tlx322 发表于 2012-5-5 16:58 static/image/common/back.gif
0.6mm处好办，0.3mm的地方要480HV还真是难做，尽量提高机体硬度，采用2段法，第一段温度用500℃，时间取久一 ...

你说的0.60mm深处320HV好办，看来是靠基体的调质硬度来保证。但0.30mm深处480HV并不好保证，能否详细介绍一下有什么诀窍？

tlx322 发表于 2012-5-9 16:08:29

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-9 12:01 static/image/common/back.gif
你说的0.60mm深处320HV好办，看来是靠基体的调质硬度来保证。但0.30mm深处480HV并不好保证，能否详细介绍 ...

因0.6mm处的硬度要求320HV，基体硬度应该也有260HV，所以只要加深氮化层就可以保证，而0.3mm处的480HV并不仅仅只是靠加深层深就能满足的。

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-9 18:06:48

tlx322 发表于 2012-5-9 16:08 static/image/common/back.gif
因0.6mm处的硬度要求320HV，基体硬度应该也有260HV，所以只要加深氮化层就可以保证，而0.3mm处的480HV并不 ...

    但据我所知，楼主可能是采用的等温（一段）氮化工艺。一段氮化是否难以突破这个技术要求？

tlx322 发表于 2012-5-9 19:01:28

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-9 18:06 static/image/common/back.gif
但据我所知，楼主可能是采用的等温（一段）氮化工艺。一段氮化是否难以突破这个技术要求？

一段法可以，只是楼主要的渗层太深，时间需要太久，不合算。

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-9 19:03:37

tlx322 发表于 2012-5-9 19:01 static/image/common/back.gif
一段法可以，只是楼主要的渗层太深，时间需要太久，不合算。

那么如此看来，要保证渗氮层某一深度处的梯度硬度就只有靠提高渗氮层深来解决了？有无其它途径？

tlx322 发表于 2012-5-9 19:06:45

个人目前没有想到更好的方法，不知杨工可有什么窍门，指教下。

孤鸿踏雪 发表于 2012-5-31 17:30:42

tlx322 发表于 2012-5-9 19:06 static/image/common/back.gif
个人目前没有想到更好的方法，不知杨工可有什么窍门，指教下。

    我没有“招”了才向你讨教的！:P
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