孤鸿踏雪 发表于 2012-6-27 06:54:11

cnszgong 发表于 2012-6-26 19:29 static/image/common/back.gif
回杨工：对于同一种材料和相同的渗碳工艺，渗碳后直接淬火的产品。两类碳控系统所控制的设备其零件表面 ...

   恕我愚钝！你说的这两类碳控系统是指哪两类？有什么不同？如果渗碳缓冷和重新加热淬火使用同一炉台，怎么会会出现两类不同的碳势控制系统呢？

热处理实干家 发表于 2012-6-29 09:03:00

个人认为可以一样。如果你们最后检验的标准不是太严格的话，能满足要求就行。我们有时就用的一样的工艺

cnszgong 发表于 2012-6-29 00:16:19

wya-8 发表于 2012-6-28 23:44 static/image/common/back.gif
回复24#
对于渗碳后空冷或缓冷后再次加热保温后淬火的渗碳气氛作为保护气体用与用于渗碳气氛是不同的，对吗 ...

回前辈：对于这种系统在渗碳气氛相同的前提下可以采用相同的碳势
      对于这种系统，如果想得到和扩散碳势相同的表面碳浓度，那么建议适当调低再次加热淬火保温是时的碳势值。

cnszgong 发表于 2012-6-28 23:13:50

比较一下这两种系统在碳势开始阶段的碳势曲线，设定碳势一样的前提下：两者的碳势在程序开始段还是有区别的。对于渗碳产品其表面碳浓度并不是由程序开始段的碳势决定的、而是由程序结束段的碳势决定的。所以两者的最终表面碳浓度并没有区别。
对于渗碳后空冷或缓冷后再次加热保温后淬火的渗碳产品。由于其保温时间相对于渗碳保温时间要短很多。所以两者得到的表面碳浓度就会不一样。

wya-8 发表于 2012-6-28 23:44:55

回复24#
对于渗碳后空冷或缓冷后再次加热保温后淬火的渗碳气氛作为保护气体用与用于渗碳气氛是不同的，对吗？

老热工 发表于 2012-6-28 22:31:58

cnszgong 发表于 2012-6-27 21:58 static/image/common/back.gif
回前辈：碳势控制是一样的，但得到的表面碳浓度可不一定一样

你能说说差别有多大？为什么？

察哈尔汗 发表于 2012-6-28 13:23:14

个人观点
理论上讲：用相同的工艺，结果相差不会太明显。如果相差较大，是设备原因。其过程能力指数相对较差。
生产中很有可能同种材料，要求的表面碳含量不一样，我也遇到过类似情况。
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