求助：10-20μm 氮化化合物层，客户要求 HV10 测表面硬度合理吗？

abc1231

求助：10-20μm 氮化化合物层，客户要求 HV10 测表面硬度190-270，合理吗？材料低碳钢，1008，目前测试下来不满足，大概硬度在HV170-180多

lph123

你可以查硬度与检测层深的标准，用多少载荷的力检测多少层深有相关标准的。

ljjsunny

薄氮化化合物层 10～30μm，行业标准统一用：
HV0.1 / HV0.05 小载荷显微维氏
只有小载荷压痕微米级，只打在化合物层内，不触基体，才是真实表面硬度。

HV10 试验力大、压痕压入深度 + 对角线非常大
10～20μm 化合物层太薄，HV10 一打，压痕直接穿透化合物层，扎进到内部铁素体基体
测出来的是「化合物层 + 软基体」的混合硬度，不是纯化合物层表面硬度

你的客户估计把原来基材的检测载荷直接套用过来了，基材本身较软，担心检测数值不稳定，就选用了大载荷。

gaoxiuzhe

HV10常检测基体硬度，不用于检测渗层表面硬度。

aniplex

参考JB/T6050-2006，分清表面硬度和化合物层硬度

dzkyx1314

也有这么要求的客户，目的就是想氮化层也有一定硬度的，如果客户一定要要求这个硬度，可以考虑要一个原件回来测试一下。